Psykisk uhelse er den vanligste årsaken til sykefravær. Likevel opplever både ledere og verneombud at arbeidet med organisatoriske og sosiale spørsmål henger etter, sammenliknet med det fysiske arbeidsmiljøet.
– Sverige står som mange andre land overfor utfordringen å utforme et langsiktig og holdbart arbeidsliv der ingen skal komme til skade eller bli syke på grunn av arbeidet. Arbeidsmiljøet er i den sammenheng svært viktig for alle som vil eller må arbeide lenger, og i dette inngår selvsagt også det psykososiale arbeidsmiljøet, sier Maria Schönfeldt, leder for Prevent.
Sammenlagt har over 2000 verneombud og ledere med personalansvar i næringslivet blitt intervjuet av TNS Sifo. Et flertall oppgir at arbeidsmiljøet er godt og at arbeidsmiljøarbeidet prioriteres høyt. I undersøkelsen utpekes stress og arbeidsklimaet som viktige spørsmål i dag og i fremtiden. Resultatene viser samtidig at satsinger på organisasjon og sosialt samspill på arbeidsplassen henger etter i forhold til arbeidet med det fysiske arbeidsmiljøet.
Overveiende godt arbeidsmiljø
90 prosent av lederne opplever at satsingen på det fysiske arbeidsmiljøet er godt eller meget godt, og tilsvarende tall for verneombudene er 83 prosent. Når det gjelder arbeidet med det organisatoriske og sosiale arbeidsmiljøet i virksomheten, er tallene gjennomgående lavere. 85 prosent av lederne opplever att arbeidet er meget godt eller godt, sammenliknet med 68 prosent blant verneombudene.
Det systematiske svikter
– Vi ser i undersøkelsen at mange virksomheter ikke har funnet sin form for å arbeide med de psykososiale utfordringene. De har kanskje spørsmål om arbeidstrivsel som stående punkt på avdelingsmøtet eller de har individuelle utviklingssamtaler, men det systematiske arbeidet med psykososiale spørsmål mangler, og det er det som må til, sier Maria Schönfeldt.
Arbeidsmiljøindikatoren viser også at det er behov for kunnskaper. Hvert femte verneombud og hver tiende leder anser seg ikke å ha tilstrekkelige kunnskaper om arbeidsmiljøet for å utføre sin rolle godt nok.